質(zhì)量流量控制器

簡要描述：質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC 是用于精確控制氣體質(zhì)量流量的設(shè)備，MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中，也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場。
MFC 可通過對(duì)氣體流量的精準(zhǔn)控制，有效地提供更高的良率。

產(chǎn)品型號(hào)：V 系列 MFC
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-05-09
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質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC

質(zhì)量流量控制器 VG80 系列 MFC 是用于控制氣體質(zhì)量流量的零部件，具有以下特點(diǎn)1：

設(shè)計(jì)dute：采用 “雙閥 + 壓降 + 位置傳感" 的dute設(shè)計(jì)。
性能youyue：響應(yīng)速度快，啟停時(shí)間≤100ms；測量精度高，可達(dá) ±0.5% S.P.；測量量程寬，在 2 - 100% F.S.；自診斷能力強(qiáng)，維護(hù)成本低。

應(yīng)用場景：MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程，如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中，也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場。 MFC 可通過對(duì)氣體流量的精準(zhǔn)控制，有效地提供更高的良率。

該系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的 etch（刻蝕）、CVD（化學(xué)氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、MOCVD（金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積）等工藝設(shè)備中，也適用于如 MPCVD（微波等離子體化學(xué)氣相沉積）、解熱解凍干燥、石英提純、醫(yī)療廢棄物處理等領(lǐng)域。

質(zhì)量流量控制器